Rapid Thermal Annealing/Chemical Vapor Deposition and Integrated Processing: Volume 146
Hodul, David
Gelpey, Jeffrey C.
Green, Martin L.
Seidel, Thomas E.
30,65 €(IVA inc.)
TGM
- ISBN: 978-1-107-41075-6
- Editorial: Cambridge University Press
- Encuadernacion: Rústica
- Páginas: 518
- Fecha Publicación: 05/06/2014
- Nº Volúmenes: 1
- Idioma: Inglés